特許
J-GLOBAL ID:200903081157636923
超清浄なフルオロポリマー
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石田 敬 (外4名)
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-557931
公開番号(公開出願番号):特表2003-522232
出願日: 2000年09月18日
公開日(公表日): 2003年07月22日
要約:
【要約】本質的にあらゆるイオンを除去し、ポリマーを本質的にイオンの添加なしに凝固させるエマルジョン重合法によって、高純度フルオロポリマーを得る。これらのポリマーは、電子装置分野で有用である。
請求項(抜粋):
水性エマルジョン重合法によって1つ以上のフルオロモノマーを重合するステップと、 このようにして得られたラテックスから実質的にNH4+、H+、およびOH-と異なる全てのイオンを除去するステップと、 フルオロポリマーを実質的にイオンの追加なしに凝固するステップと、を含む超清浄なフルオロポリマーを調製する方法。
IPC (4件):
C08F 6/16
, C08K 5/00
, C08K 5/14
, C08L 27/12
FI (4件):
C08F 6/16
, C08K 5/00
, C08K 5/14
, C08L 27/12
Fターム (25件):
4J002BD122
, 4J002BD151
, 4J002EK006
, 4J002EU197
, 4J002EW178
, 4J002FD012
, 4J002FD146
, 4J002FD147
, 4J002FD208
, 4J100AC24P
, 4J100AC26P
, 4J100AC27P
, 4J100AC37P
, 4J100AE38P
, 4J100AE39P
, 4J100BA40P
, 4J100BB03P
, 4J100BB17P
, 4J100CA04
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100EA07
, 4J100FA20
, 4J100GC03
, 4J100GC16
引用特許:
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