特許
J-GLOBAL ID：200903081163941924
スピンバルブ型薄膜素子の製造方法及びこのスピンバルブ型薄膜素子を用いた薄膜磁気ヘッドの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野▲崎▼ 照夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-118949
公開番号（公開出願番号）：特開2000-349364
出願日： 1998年07月21日
公開日（公表日）： 2000年12月15日
要約：
【要約】【課題】 固定磁性層を、非磁性中間層を介して、第1の固定磁性層と第2の固定磁性層の2層に分断して形成すると、交換結合磁界を大きくできるが、第1の固定磁性層との界面で交換結合磁界を発生させるのに熱処理を必要とする反強磁性材料を使用した場合には、熱処理中の印加磁場の大きさ及びその方向を適正に調節する必要性がある。また、第1の固定磁性層と第2の固定磁性層の磁気モーメントの大きさも適正に制御しなければならない。【解決手段】 第1の固定磁性層12の磁気モーメントの方が第2の固定磁性層14の磁気モーメントよりも小さくなっている。この場合、前記第1の固定磁性層の磁化を得たい方向と逆方向に、100〜1000Oe、または磁化を得たい方向に5kOe以上の磁場を印加する。これにより、前記第1の固定磁性層と第2の固定磁性層の磁化を反平行状態に保てる。
請求項（抜粋）：
フリー磁性層の上下に積層された非磁性導電層と、一方の前記非磁性導電層の上に形成された上側固定磁性層と、他方の非磁性導電層の下に形成された下側固定磁性層と、上側固定磁性層の上、及び下側固定磁性層の下に形成された反強磁性層とを有するスピンバルブ型薄膜素子の製造方法において、前記各固定磁性層を、反強磁性層に接する第1の磁性層と、前記第1の磁性層と非磁性中間層を介して重ねられる第2の磁性層の2層で形成し、このとき、前記上側と前記下側の一方の固定磁性層で、第1の磁性層の磁気モーメント(飽和磁化Ms・膜厚t)を、第2の磁性層の磁気モーメントよりも大きくし、他方の固定磁性層で、第1の磁性層の磁気モーメントを、第2の磁性層の磁気モーメントよりも小さくする工程と、磁場中熱処理を施して、前記各第1の磁性層と反強磁性層との界面にて交換結合磁界を発生させる際に、前記上側固定磁性層および前記下側固定磁性層の第1の磁性層と第2の磁性層との間に発生する交換結合磁界(RKKY相互作用)より大きい磁場を印加して、前記各第1の磁性層の磁化を前記磁場方向と同一方向に固定し、各第2の磁性層の磁化を前記磁場方向と反対方向に固定することで、前記上側固定磁性層の第1の磁性層と第2の磁性層との磁気モーメントを足し合わせた合成磁気モーメントと、前記下側固定磁性層の第1の磁性層と第2の磁性層との磁気モーメントを足し合わせた合成磁気モーメントとを互いに逆方向に向ける工程と、を有することを特徴とするスピンバルブ型薄膜素子の製造方法。
IPC (5件)：
H01L 43/12
, G11B 5/39
, H01F 10/26
, H01F 10/32
, H01L 43/08
H01L 43/12
, G11B 5/39
, H01F 10/26
, H01F 10/32
, H01L 43/08 Z
