特許

J-GLOBAL ID：200903081172506971

高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造方法

発明者： 小野 満司 ,  石田 浩
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
代理人 (1件)： 野崎 銕也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-084630
公開番号（公開出願番号）：特開平8-253435
出願日： 1995年03月17日
公開日（公表日）： 1996年10月01日
要約：

【要約】【構成】 2-シクロヘキセン-1-オールの液相脱水反応において、触媒として不溶性で少なくともカチオンの一部がプロトン型である無機または有機のイオン交換体を用い、かつ反応系中にあらかじめ水を共存させることを特徴とする高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造方法。好ましくは無機のイオン交換体が結晶性アルミノシリケートであり、有機のイオン交換体が強酸性陽イオン交換樹脂である。あらかじめ共存させる水の量は2-シクロヘキセン-1-オールの量に対して0.2〜5000重量倍である。【効果】 液相反応条件下、高収率で1,3-シクロヘキサジエンが得られ、且つ分離が困難な副生物を顕著に抑制することができ、極めて高純度の1,3-シクロヘキサジエンを得ることができる。

請求項（抜粋）：

2-シクロヘキセン-1-オールの液相脱水反応により1,3-シクロヘキサジエンを製造するに際し、触媒として不溶性で、少なくともカチオンの一部がプロトン型である無機または有機のイオン交換体を用い、かつ反応系中にあらかじめ水を共存させることを特徴とする高純度1,3-シクロヘキサジエンの製造方法。

IPC (6件)：

C07C 13/23 ,  B01J 29/40 ,  B01J 29/70 ,  B01J 31/08 ,  C07C 5/373 ,  C07B 61/00 300

FI (6件)：

C07C 13/23 ,  B01J 29/40 X ,  B01J 29/70 X ,  B01J 31/08 X ,  C07C 5/373 ,  C07B 61/00 300