発熱反応を利用したポリシリコンの調製方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本秀策
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-539461
公開番号（公開出願番号）：特表2000-511154
出願日： 1998年02月13日
公開日（公表日）： 2000年08月29日
要約：

【要約】本開示は、シランガスを含む反応ガスの熱分解または水素還元によってポリシリコンを調製するためのプロセスを記載する。このプロセスは、反応ガスに加えて反応器に塩化水素を導入する工程、および追加の熱源として、塩化水素とシリコンとの間の反応から発生した反応熱を反応器内で利用する工程を含む。

請求項（抜粋）：

シランガスを含む反応ガスの熱分解または水素還元によってポリシリコンを調製する方法であって、該反応ガスに加えて反応器内に塩化水素を導入する工程、および該塩化水素の発熱反応から発生する反応熱を該反応器内において利用する工程を包含する、方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

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