特許
J-GLOBAL ID：200903081181517056
光導波膜の作製方法およびこれを用いた光導波路の作製方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-324331
公開番号（公開出願番号）：特開平5-273426
出願日： 1992年12月03日
公開日（公表日）： 1993年10月22日
要約：
【要約】【目的】 コア・クラッドの界面を正確に制御すること。【構成】 図2(a)のステップでは、バーナに燃料と原料ガスとを供給しつつ、その火炎でSi基板上を走査する。合成されたガラス微粒子は、基板上に堆積されて下部クラッド層となるべき第1多孔質ガラス層を形成する。図2(b)のステップでは、火炎のみで第1多孔質ガラス層を加熱する。第1多孔質ガラス層の上層部分のカサ密度は0.3g/cm3 に上昇する。カサ密度を高めたこの上層部分は、GeO2 に対するシールド層となる。図2(c)のステップでは、コア層となるべき第2多孔質ガラス層を第1多孔質ガラス層上に一様に堆積する。次のステップでは、第1および第2多孔質ガラス層を焼結する。この場合、高密度のシールド層の存在によって、第2多孔質ガラス層中のGeO2 成分が揮散して第1多孔質ガラス層内に拡散することを防止することができる。
請求項（抜粋）：
火炎堆積法によって基板上にスートを堆積させると共に、少なくとも上層部のカサ密度を上昇させて、少なくとも上層部に所定のカサ密度以上のカサ密度を有する下部クラッド層となるべき第1の多孔質ガラス層を形成する第1の工程と、火炎堆積法によって前記第1の多孔質ガラス層の上に、屈折率上昇ドーパントを添加したスートを堆積させて、コア層となるべき第2の多孔質ガラス層を形成する第2の工程と、前記第1の多孔質ガラス層と前記第2の多孔質ガラス層を透明ガラス化する第3の工程とを備え、前記所定のカサ密度は、透明ガラス化する工程において、前記第2の多孔質ガラス層に添加した屈折率上昇ドーパントが前記第1の多孔質ガラス層に拡散することを実質的に阻止するカサ密度である光導波路用の膜の作製方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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