特許
J-GLOBAL ID:200903081182475900
高嵩密度粒子群
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
細田 芳徳
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-106815
公開番号(公開出願番号):特開2000-297298
出願日: 1999年04月14日
公開日(公表日): 2000年10月24日
要約:
【要約】【課題】如何なる洗濯条件でも溶解性及び洗浄性に優れる高嵩密度粒子群を提供すること。【解決手段】界面活性剤を含有し、平均粒径が150〜500μm、嵩密度が500g/L以上の高嵩密度粒子群であって、710μm以上の粒径の粒子群及び125μm未満の粒径の粒子群が該高嵩密度粒子群全体のそれぞれ10重量%以下であり、かつ該界面活性剤が、式(1)〜(4)【化1】(式中、R1 は炭素数10〜20の炭化水素基、R2 は炭素数1〜5の炭化水素基、R3 は-(AO)n-H、R4 は炭素数6〜18の炭化水素基、X- は陰イオンである。Aはアルキレン基であり、m、nは1〜10である。)のいずれかで表される化合物からなる群より選ばれる一種以上である高嵩密度粒子群。
請求項(抜粋):
界面活性剤を含有し、平均粒径が150〜500μm、嵩密度が500g/L以上の高嵩密度粒子群であって、710μm以上の粒径の粒子群及び125μm未満の粒径の粒子群が該高嵩密度粒子群全体のそれぞれ10重量%以下であり、かつ該界面活性剤が、式(1)〜(4)【化1】(式中、R1 は炭素数10〜20の炭化水素基、R2 は炭素数1〜5の炭化水素基、R3 は-(AO)n-H、R4 は炭素数6〜18の炭化水素基、X- は陰イオンである。Aはアルキレン基であり、m、nは1〜10である。)のいずれかで表される化合物からなる群より選ばれる一種以上である高嵩密度粒子群。
IPC (4件):
C11D 17/06
, C11D 1/40
, C11D 1/52
, C11D 1/62
FI (4件):
C11D 17/06
, C11D 1/40
, C11D 1/52
, C11D 1/62
Fターム (18件):
4H003AB19
, 4H003AB27
, 4H003AB31
, 4H003AC08
, 4H003AE02
, 4H003AE05
, 4H003AE06
, 4H003BA10
, 4H003BA28
, 4H003CA18
, 4H003DA01
, 4H003EA12
, 4H003EA16
, 4H003EA25
, 4H003EA28
, 4H003EB32
, 4H003EB36
, 4H003FA32
引用特許:
審査官引用 (7件)
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洗剤組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-146465
出願人:花王株式会社
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高密度粒状洗剤
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-192919
出願人:花王株式会社
-
特表平3-504734
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