特許
J-GLOBAL ID:200903081190006943

デポジション装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 藤吉 繁
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-316074
公開番号(公開出願番号):特開平8-150487
出願日: 1994年11月28日
公開日(公表日): 1996年06月11日
要約:
【要約】 (修正有)【目的】 真空チャンバー等を必要とせず、大気下において電子部品や素子の欠落箇所のデポジション(補修)を行うこと。【構成】 レーザーユニット1の光軸線上にレーザービーム巾を可変調整する絞り装置2、絞り装置を通過したレーザービームを集束させる対物レンズ5を直列に位置させると共に、X軸方向、Y軸方向に移動可能な架台6上に被補修物品12の補修すべき欠落箇所をレーザーユニット側に向けて載置し、対物レンズの焦点位置付近にレーザービーム透過性の板状あるいはテーブル状のデポジット材料保持部材10を位置させ、デポジット材料保持部材の裏面側に薄膜状のデポジット材料を付着させ、架台を移動させて補修すべき欠落箇所をレーザービームの焦点位置に一致させ、パルス状レーザービームを照射することで、デポジット材料を被補修物品の欠落箇所に転写融着させる。
請求項(抜粋):
パルス波レーザービームを発生させるレーザーユニット1の光軸線上にレーザービーム幅を可変調整する絞り装置2、前記絞り装置2を通過したレーザービームを集束させる対物レンズ5をそれぞれ直列に位置させると共に、前記対物レンズ5から空間を隔てて、直交するX軸方向、Y軸方向にそれぞれ移動可能な架台6を位置させ、該架台6上には被補修物品12の補修すべき欠落箇所をレーザーユニット1側に向けて載置できる様にし、更に、前記対物レンズ5の焦点位置付近にレーザービーム透過性の板状あるいはテープ状をなしたデポジット材料保持部材10を位置させ、該デポジット材料保持部材10の裏面側に被膜状をしたデポジット材料11を付着せしめ、前記架台6をX軸方向、Y軸方向に移動させることにより補修すべき欠落箇所をレーザービームの照射位置に一致させ、パルス状レーザービームを照射することにより、デポジット材料11を被補修物品の欠落箇所に転写融着せしめる様にしたことを特徴とするデポジション装置。
IPC (6件):
B23K 26/00 ,  B23K 26/06 ,  B23K 26/08 ,  B23P 6/00 ,  H01L 21/3205 ,  H01S 3/00

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