特許

J-GLOBAL ID：200903081191396206

耐光性の改良された難燃性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物

発明者： 則末 泰正 ,  渡辺 哲二
出願人/特許権者： 三菱瓦斯化学株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-061146
公開番号（公開出願番号）：特開平7-268202
出願日： 1994年03月30日
公開日（公表日）： 1995年10月17日
要約：

【要約】【目的】 優れた耐光性および難燃性を同時に有し、しかも高温成型時に滞留による変色の無い樹脂組成物の提供。【構成】 (a)ポリフェニレンエーテル樹脂単独、または、ポリフェニレンエーテル樹脂とポリスチレン系樹脂との混合物100重量部と、(b)ヒドロキシベンゾトリアゾール類およびヒンダードアミン類からなる群より選ばれた少なくとも一種の化合物からなる耐光安定剤0.01〜10重量部、及び、(c)ビスフェノールA-ビスフォスフェート類1〜30重量部からなるポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。

請求項（抜粋）：

(a)一般式化1で表される構造単位を主鎖に持つ、ポリフェニレンエーテル樹脂単独またはポリフェニレンエーテル樹脂とポリスチレン系樹脂との混合物100重量部と、【化1】(式中、R1は炭素数1〜3の低級アルキル基、R2、R3は水素原子または炭素数1〜3の低級アルキル基を示す。)(b)ヒドロキシベンゾトリアゾール類およびヒンダードアミン類からなる群より選ばれた少なくとも一種の化合物からなる耐光安定剤0.01〜10重量部、及び、(c)一般式化2で表されるビスフェノールA-ビスフォスフェート類1〜30重量部からなるポリフェニレンエーテル系樹脂組成物。【化2】(式中、R4、R5は炭素数1〜6の低級アルキル基、フェニル基またはアルキル置換フェニル基を示す。)

IPC (4件)：

C08L 71/12 LQM ,  C08K 5/17 ,  C08K 5/3475 ,  C08K 5/521

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特表平6-502684
  
• ポリフェニレンエーテル系難燃樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-005742   出願人：旭化成工業株式会社
• 特開平1-126364
  
• 特表昭56-501881