特許

J-GLOBAL ID：200903081208120374

負イオンフィルタ

発明者： チヒロ オーカワ
出願人/特許権者： アルキメデス テクノロジー グループ,インコーポレイテッド
代理人 (1件)： 浅村 皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-315317
公開番号（公開出願番号）：特開2001-185065
出願日： 2000年10月16日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】 多種プラズマ内で正イオンを負イオンから分離し、再結合を防ぐプラズマフィルタを提供する。【解決手段】 フィルタ10は円筒形チャンバ26を含む。チャンバを囲むコイル20が、チャンバ縦軸22に平行な磁界を発生する。電極28が磁界に垂直な電界を発生し、チャンバ内に交差する電界と磁界ExBを形成する。内向き電界の電位は軸上で負、チャンバ壁で零となる。注入器18がチャンバ内にプラズマを注入し、チャンバ内の交差する電界と磁界と相互作用させる。チャンバ壁が軸から距離a、磁界の大きさがBz、電界の電位が軸上で負のVctrで壁で零である場合、カットオフ質量対電荷比McをMc/e=a2(Bz)2/8Vctrと計算する。Mc/eより大きい質量M1(-)/eの負イオンをチャンバから射出し、壁から収集する。全正イオンをチャンバ通過中に中に閉じ込め、外側で収集する。

請求項（抜粋）：

回転する多種プラズマの中で負イオンから正イオンを分離するためのプラズマフィルタであって、縦軸を定めるチャンバを取り囲む円筒形の壁と、前記縦軸と実質的に平行にそろえられた磁界を前記チャンバ内に発生するための手段と、前記磁界と実質的に垂直な内向きの電界を発生することにより交差する電界と磁界を作成するための手段であって、前記内向きの電界は前記縦軸上で負電位をそなえ、前記壁上で実質的に零の電位をそなえる、前記交差電界-磁界作成手段と、前記の回転する多種プラズマを前記チャンバ内に注入して、前記の交差する電界と磁界と相互作用させることにより、前記負イオンを前記壁内に射出し、前記正イオンを前記チャンバ通過中に前記チャンバに閉じ込め、これにより前記負イオンを前記正イオンから分離する、多種プラズマ注入手段とを具備する前記プラズマフィルタ。

IPC (3件)：

H01J 37/05 ,  B01J 19/08 ,  G21K 1/00

FI (3件)：

H01J 37/05 ,  B01J 19/08 E ,  G21K 1/00 A