特許
J-GLOBAL ID：200903081213665389
光学デバイス用材料・光学デバイス・光学デバイス製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-016808
公開番号（公開出願番号）：特開平7-218702
出願日： 1994年02月10日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】曲率の大小に拘らず、所望の凸曲面を持った光学デバイスを製造できる、光学デバイスの製造方法を実現する。【構成】光学デバイス用材料の、感光性材料の薄層16に、露光により光学デバイスの端面形状をパターニングし、中間層14をエッチングして、上記端面形状を金属薄膜層14に写し、端面形状を写された金属薄膜層14をマスクとしてドライエッチングを行い、端面形状に正確に従う、熱可塑性材料層12の3次元パターンを得、熱可塑性材料層12の3次元パターンを加熱し、熱変形により、1以上の、所望の凸曲面形状を創成した後、ドライエッチングを行って、1以上の凸曲面形状を、デバイス材料10に彫り写す。
請求項（抜粋）：
デバイス材料の1以上の平坦な表面に、所望の厚さの熱可塑性材料層と、中間層と、感光性材料の薄層とを、上記表面側から上記順序に積層して構成される、光学デバイス用材料。
IPC (4件)：
G02B 3/00
, B29C 69/00
, B29D 11/00
, B29L 11:00
