特許
J-GLOBAL ID：200903081214421386

永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板

発明者：
森田 正樹

森田 正樹 について

, 
畠山 修一

畠山 修一 について

, 
名越 俊昌

名越 俊昌 について


出願人/特許権者：
日立化成工業株式会社

日立化成工業株式会社 について


代理人 (2件)： 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-356633
公開番号（公開出願番号）：特開2005-099647
出願日： 2003年10月16日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 保存安定性及び高温耐湿性に優れる永久レジスト用感光性樹脂組成物、永久レジスト用感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及びプリント配線板を提供すること。【解決手段】 (A)カルボキシル基を有するポリマと、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、を含み、上記(A)成分及び(B)成分の合計量100重量部当り、上記(A)成分及び(B)成分中の炭素-炭素二重結合の総モル数が0.05〜0.3モルであることを特徴とする永久レジスト用感光性樹脂組成物。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)カルボキシル基を有するポリマと、(B)エチレン性不飽和結合を有する光重合性化合物と、(C)光重合開始剤と、を含み、 前記(A)成分及び(B)成分の合計量100重量部当り、前記(A)成分及び(B)成分中の炭素-炭素二重結合の総モル数が0.05〜0.3モルであることを特徴とする永久レジスト用感光性樹脂組成物。
IPC (5件)：
G03F7/033 ,  G03F7/004 ,  G03F7/027 ,  G03F7/038 ,  H05K3/28
FI (6件)：
G03F7/033 ,  G03F7/004 512 ,  G03F7/027 513 ,  G03F7/038 501 ,  H05K3/28 D ,  H05K3/28 F
Fターム (36件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AB11 ,  2H025AB15 ,  2H025AC01 ,  2H025AD01 ,  2H025BC32 ,  2H025BC42 ,  2H025BC53 ,  2H025BC66 ,  2H025BC81 ,  2H025BC85 ,  2H025CA01 ,  2H025CA34 ,  2H025CA39 ,  2H025CA48 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB43 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  5E314AA27 ,  5E314AA33 ,  5E314AA38 ,  5E314BB02 ,  5E314BB12 ,  5E314CC15 ,  5E314EE03 ,  5E314FF05 ,  5E314FF19 ,  5E314GG01 ,  5E314GG11
引用特許：
出願人引用 (2件)
  • 特開昭61-243869号公報
  • 特開平4-281454号公報
審査官引用 (3件)

前のページに戻る

TOP

BOTTOM