特許

J-GLOBAL ID：200903081230650468

電着塗装方法

発明者： 立木 繁雄 ,  上原 秀秋 ,  天野倉 仁 ,  加藤 琢郎 ,  塚田 勝重 ,  山田 正治 ,  山崎 雄治 ,  塩谷 俊彦 ,  長島 義久
出願人/特許権者： 大日本塗料株式会社 ,  日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-108667
公開番号（公開出願番号）：特開平6-322597
出願日： 1993年05月11日
公開日（公表日）： 1994年11月22日
要約：

【要約】【目的】 フォトレジストを電着塗装で形成する方法において、電着膜(フォトレジスト)の膜厚の均一性を向上させる。【構成】 フォトレジスト用の電着浴に導電性基板を浸漬してこの基板表面にフォトレジスト膜を形成する電着塗装方法において、電着浴に浸漬した前記基板の表面付近で、かつこの基板に対し、平行方向に浴液を流速0.05〜2m/秒の速さで流動させながら電着塗装することを特徴とする電着塗装方法。

請求項（抜粋）：

フォトレジスト用の電着浴に導電性基板を浸漬してこの基板表面にフォトレジスト膜を形成する電着塗装方法において、電着浴に浸漬した前記基板の表面付近で、かつこの基板に対し平行方向に浴液を流速0.05〜2m/秒の速さで流動させながら電着塗装することを特徴とする電着塗装方法。

IPC (3件)：

C25D 13/22 302 ,  G03F 7/30 ,  H05K 3/06