特許

J-GLOBAL ID：200903081236471514

荷電粒子線露光装置並びにそのマスクアライメント方法及び装置較正方法

発明者： 平柳 徳行
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 四宮 通
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-364209
公開番号（公開出願番号）：特開平11-186150
出願日： 1997年12月16日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】 一度に荷電粒子線を照射すべきマスク上の領域の大きさや形状を変化させる必要が生じた場合であっても対応することができる荷電粒子線露光装置を提供する。【解決手段】 電子銃1から発生した電子ビームEBは、まず、第1のアパーチャ50により矩形ビームに成形される。この矩形に成形されたビームを第2のアパーチャ51に照射する位置をビーム成形用偏向器52により設定することにより、マスク2上に照射される電子ビームEBの大きさ及び形状を任意に無段階に変化させて設定することが可能となる。

請求項（抜粋）：

荷電粒子線によるマスクの像を試料上に転写する荷電粒子線露光装置において、マスクに入射させる荷電粒子線の断面の大きさ及び形状のうちの少なくとも一方を変化させる可変手段を備えたことを特徴とする荷電粒子線露光装置。

IPC (6件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 ,  G21K 5/04 ,  H01J 37/09 ,  H01J 37/147

FI (7件)：

H01L 21/30 541 B ,  G03F 7/20 504 ,  G03F 9/00 H ,  G21K 5/04 E ,  H01J 37/09 A ,  H01J 37/147 C ,  H01L 21/30 541 E