特許
J-GLOBAL ID：200903081239969238
ゾルゲル薄膜の成膜法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂本 栄一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-046182
公開番号（公開出願番号）：特開平9-234415
出願日： 1996年03月04日
公開日（公表日）： 1997年09月09日
要約：
【要約】【課題】 スピンコート法でゾルゲル液を用い、大面積の基板上に2μm程度以下、特に1μm程度以下の均一な光学薄膜を連続的に成膜する成膜法を得る。【解決手段】 基板上にスピンコート法によってゾルゲル薄膜を被膜形成する成膜法において、スピンコータ-上にセットして回転しつつある基板表面に被膜形成用塗布液を滴下し、スピン回転により該塗布液を表面上に被膜化した後、該被膜化した塗布液が渇きはじめて流動性を失う前に基板のスピン回転を一旦停止し、被膜化した塗布液自体の流動によりレベリングさせ、次いでレベリングした状態で低速回転させることで均一な被膜を形成するゾルゲル薄膜の成膜法。
請求項（抜粋）：
基板上にスピンコート法によってゾルゲル薄膜を被膜形成する成膜法において、スピンコータ-上にセットして回転しつつある基板表面に被膜形成用塗布液を滴下し、スピン回転により該塗布液を表面上に被膜化した後、該被膜化した塗布液が渇きはじめて流動性を失う前に基板のスピン回転を一旦停止し、被膜化した塗布液自体の流動によりレベリングさせ、次いでレベリングした状態で低速回転させることで均一な被膜を形成することを特徴とするゾルゲル薄膜の成膜法。
IPC (4件)：
B05D 1/40
, B60J 1/00
, C03C 17/30
, C23C 18/02
B05D 1/40 A
, B60J 1/00
, C03C 17/30 A
, C23C 18/02
