荷電粒子ビーム照射方法および荷電粒子ビーム照射装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-341035
公開番号（公開出願番号）：特開平11-169469
出願日： 1997年12月11日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：

【要約】【課題】荷電粒子ビームを時間的に変化させながら照射する場合における標的内3次元線量分布を得る。【解決手段】荷電粒子ビーム照射中に、荷電粒子ビーム照射位置および荷電粒子ビーム照射量に関する情報と、荷電粒子ビーム発生装置および荷電粒子ビーム照射装置の運転パラメータを記録することにある。

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビーム照射中に、荷電粒子ビーム照射位置および荷電粒子ビーム照射量に関する情報と、荷電粒子ビーム発生装置および荷電粒子ビーム照射装置の運転パラメータを記録することを特徴とする荷電粒子ビーム照射方法。

IPC (3件)：

A61N 5/10 , G21K 1/08 , G21K 5/04

FI (4件)：

A61N 5/10 D , A61N 5/10 P , G21K 1/08 , G21K 5/04 A

引用特許：

審査官引用 (5件)

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