特許
J-GLOBAL ID：200903081254327943
荷電ビーム描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
内原 晋
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-285314
公開番号（公開出願番号）：特開平5-121032
出願日： 1991年10月31日
公開日（公表日）： 1993年05月18日
要約：
【要約】【目的】微細加工用荷電ビーム描画装置の、ビーム偏向歪に起因するパターンできあがり寸法のバラツキを軽減させる。【構成】照射時間変調部11を有し、ビーム偏向位置に従ってビーム照射量を調整することにより、できあがり寸法のバラツキを補正する。
請求項（抜粋）：
ビーム照射量を、ビーム照射時間によって制御し、ビーム照射位置をビーム偏向器により制御する荷電ビーム描画装置で、ビーム偏向位置に従ってビーム照射時間を調整する手段を有することを特徴とする荷電ビーム描画装置。
IPC (3件)：
H01J 37/305
, H01J 37/147
, H01L 21/027
