特許
J-GLOBAL ID:200903081258907405

成膜装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 石島 茂男 ,  阿部 英樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2007-340323
公開番号(公開出願番号):特開2008-137888
出願日: 2007年12月28日
公開日(公表日): 2008年06月19日
要約:
【課題】耐久性が高く、光触媒機能を有する酸化チタン薄膜を提供する。【解決手段】バリア薄膜12表面に酸化チタン薄膜31を点在させ、その間に親水性薄膜41を形成し、機能性薄膜3を構成させる。機能性薄膜3表面に、酸化チタン薄膜31が露出する部分と親水性薄膜41が露出する部分とが混在するので、両方の薄膜の機能を得ることができる。従って、紫外線が照射される環境下ではセルフクリーニング効果と超親水性が発現され、暗所でも、ある程度の親水性が得られる。酸化チタン薄膜31は、酸素ガスが添加されたスパッタリングガスにより、酸化チタンターゲットをスパッタリングすると、形成される酸化チタン薄膜中の欠損酸素を補充できるので、光触媒機能を有する酸化チタン薄膜31を形成することができる。【選択図】図1
請求項(抜粋):
親水性薄膜と酸化チタン薄膜を有する機能性薄膜であって、 前記機能性薄膜の表面には、前記親水性薄膜が露出する部分と、前記酸化チタン薄膜が露出する部分とが、微小領域中で混在することを特徴とする機能性薄膜。
IPC (4件):
C03C 17/34 ,  C01G 23/04 ,  B01J 35/02 ,  B01J 37/02
FI (4件):
C03C17/34 Z ,  C01G23/04 C ,  B01J35/02 J ,  B01J37/02 301P
Fターム (35件):
4G047CA02 ,  4G047CB04 ,  4G047CC03 ,  4G047CD02 ,  4G059AA01 ,  4G059AB05 ,  4G059AB19 ,  4G059AC21 ,  4G059AC22 ,  4G059EA04 ,  4G059EA05 ,  4G059EB04 ,  4G059GA01 ,  4G059GA05 ,  4G059GA12 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA02A ,  4G169BA02B ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BA14B ,  4G169BA48A ,  4G169EA08 ,  4G169EC29 ,  4G169ED02 ,  4G169FA03 ,  4G169FB02 ,  4G169FB79 ,  4G169HA03 ,  4G169HA09 ,  4G169HB01 ,  4G169HC11 ,  4G169HD13 ,  4G169HE06
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)

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