特許
J-GLOBAL ID:200903081261878696

ポリブタジエンの連続供給を用いてHIPSを製造する方法および装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小田島 平吉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-169428
公開番号(公開出願番号):特開2000-351802
出願日: 2000年06月06日
公開日(公表日): 2000年12月19日
要約:
【要約】【課題】 ポリブタジエンの連続供給を用いてHIPSを製造する方法および装置。【解決手段】 ブタジエンを重合させてポリブタジエンを生じさせそしてこのポリブタジエンを生じさせる時に用いた溶媒をスチレンモノマーで連続的に交換した後その結果として生じたポリブタジエン/スチレン溶液を重合させて高衝撃用ポリスチレンを生じさせることを通して高衝撃用ポリスチレンを製造する方法およびそれで用いるに適した装置。ブタジエンと溶媒を調製する手段、添加剤を計量する手段、ブタジエンを重合させる手段、溶媒を交換する手段、溶媒を回収する手段およびスチレンを重合させる手段を含む装置を開示する。
請求項(抜粋):
グラフト化したポリブタジエンを含有するゴム改質モノビニル芳香族ポリマーを連続的に製造する装置であって、ブタジエンと炭化水素溶媒と適切な重合触媒を一緒にして重合性混合物を生じさせる1番目の混合ゾーン、前記溶媒と前記混合物の温度が前以て決めておいた範囲内になるように温度を選択的に調節する温度調節装置、前記混合物中のブタジエンを重合させて前記ゴム改質モノビニル芳香族ポリマーの製造で用いるに適した濃度のポリブタジエンを生じさせる1番目の反応ゾーン、モノビニル芳香族モノマーを前記ポリブタジエンを含有する前記混合物に導入する希釈ゾーン、前記混合物から前記溶媒および未反応のブタジエンを実質的に分離してポリブタジエンが前記モノビニル芳香族モノマーに入っている溶液を生じさせる揮発物除去ゾーン、前記溶媒および未反応のモノビニル芳香族モノマーを分離回収する回収ゾーン、前記ポリブタジエンとモノビニル芳香族モノマーが入っている溶液をスチレンおよび添加剤と一緒にして2番目の重合性混合物を生じさせる2番目の混合ゾーン、および前記2番目の重合性混合物の重合を開始させて前記ゴム改質モノビニル芳香族ポリマーを生じさせる2番目の反応ゾーン、を含んで成る装置。
IPC (3件):
C08F 2/01 ,  C08F 2/00 ,  C08F279/02
FI (3件):
C08F 2/01 ,  C08F 2/00 Z ,  C08F279/02

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