特許

J-GLOBAL ID：200903081286107465

フルオロアルキル基含有シロキサンの製造方法

発明者： 佐藤 則夫 ,  村上 信仁
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-323172
公開番号（公開出願番号）：特開平10-158401
出願日： 1996年12月03日
公開日（公表日）： 1998年06月16日
要約：

【要約】【課題】 より長鎖のフルオロアルキル基の任意の割合での導入、高粘度のフルオロアルキル基含有ポリオルガノシロキサンの合成を可能にする。また、特に耐熱性に優れた分岐構造を有する液状のフルオロアルキル基含有ポリオルガノシロキサンの合成を可能にする。【解決手段】 フルオロアルキル基含有シロキサンを製造するにあたり、(A)一般式:Rf SiRa Χ3-a (Rf はフルオロアルキル基、Rは水素原子または炭素数 1〜20の非置換もしくは置換炭化水素基、Xは加水分解性基、 aは 0〜 3の整数)で表されるフルオロアルキル基含有シラン 100重量部と、(B)ポリオルガノシロキサン 5〜5000重量部とを、(C)塩化窒化リン0.0001〜 0.1重量部の存在下に平衡化させる。

請求項（抜粋）：

フルオロアルキル基含有シロキサンを製造するにあたり、(A)一般式:Rf SiRa Χ3-a(式中、Rf はフルオロアルキル基を、Rは水素原子または炭素数 1〜20の非置換もしくは置換炭化水素基を、Xは加水分解性基を、 aは 0〜 3の整数を示す)で表されるフルオロアルキル基含有シラン 100重量部と、(B)ポリオルガノシロキサン 5〜5000重量部とを、(C)塩化窒化リン0.0001〜 0.1重量部の存在下に平衡化させることを特徴とするフルオロアルキル基含有シロキサンの製造方法。

IPC (3件)：

C08G 77/10 ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/385

FI (3件)：

C08G 77/10 ,  C08G 77/08 ,  C08G 77/385