感放射線組成物及び電子装置の製造方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：作田康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-016321
公開番号（公開出願番号）：特開2003-215790
出願日： 2002年01月25日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】ラジカル反応の拡散を抑制して、反応領域を制御し、解像度が向上して微細パタンの形成が可能な感放射線組成物を提供する。【解決手段】ラジカル発生剤、ラジカル反応性モノマー、ベースポリマーを少なくとも含む感放射線組成物において、さらに下記(1)で表されるニトロキシル化合物を含むようにしたものである。(R1、R2、R5およびR6は、水素原子、炭素数が1〜10のアルキル基、アリール基、アルキルフェニル基のような置換基がついたアルキル基、リン酸エステル基等。R3およびR4は、水素原子、炭素数が1〜10のアルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基のような置換基がついたアルキル基。また、互いに連結して環を形成していても良い。)また活性放射線の照射でラジカル的に開裂するポリマー、ベースポリマーを少なくとも含む感放射線組成物において、さらにニトロキシル化合物を含むようにしたものである。

請求項（抜粋）：

ラジカル発生剤(a)、ラジカル反応性モノマー(b)、ベースポリマー(c)を少なくとも含む架橋型の感放射線組成物において、前記感放射線組成物がさらにニトロキシル化合物を含むことを特徴とする感放射線組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 502 , G03F 7/004 505 , C08F 2/40 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/004 501 , G03F 7/004 502 , G03F 7/004 505 , C08F 2/40 , H01L 21/30 502 R

Fターム (15件)：

2H025AA02 , 2H025AA11 , 2H025AB15 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AD01 , 2H025BC13 , 2H025BC42 , 2H025CA00 , 2H025CC01 , 2H025CC20 , 4J011AB01 , 4J011AC04 , 4J011NA02 , 4J011NB03

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