特許

J-GLOBAL ID：200903081291589427

シリカガラス及びその製造方法

発明者： 須田 裕之 ,  近藤 信一 ,  多賀 俊幸 ,  津久間 孝次 ,  秋山 智幸
出願人/特許権者： 東ソー株式会社 ,  日本電信電話株式会社
代理人 (1件)： 本多 小平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-109559
公開番号（公開出願番号）：特開平5-301733
出願日： 1992年04月28日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：

【要約】【目的】 高純度で、かつ耐熱性が高く、均質で、紫外線吸収がないシリカガラス及びその製造方法を提供する。【構成】 ガラス中に含まれるOH基濃度が10ppm以下、ハロゲン元素濃度が50ppm以下、全ての金属不純物元素が各々10ppb以下であり、かつ、1200°Cにおける粘度がlogη=11.80(Pa・sec)以上であるシリカガラス及びその製造方法。

請求項（抜粋）：

ガラス中に含まれるOH基濃度が10ppm以下、ハロゲン元素濃度が50ppm以下、全ての金属不純物元素が各々10ppb以下であり、かつ、1200°Cにおける粘度がlogη=11.80(Pa・sec)以上であることを特徴とするシリカガラス。

IPC (3件)：

C03B 37/014 ,  C03B 20/00 ,  C03C 3/11