特許
J-GLOBAL ID：200903081292375870
洗浄処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
江原 省吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-209121
公開番号（公開出願番号）：特開平5-047727
出願日： 1991年08月21日
公開日（公表日）： 1993年02月26日
要約：
【要約】【目的】 ウェーハ部材を一枚一枚出入れする搬送で枚葉処理できるようにキャリア内にほぼ水平状態で収納して効率よく洗浄処理できる洗浄処理装置を提供することにある。【構成】 多数の半導体ウェーハ(1)を定ピッチで整列収納するキャリア(2)を、半導体ウェーハ(1)が水平方向から所定角度傾斜した状態で保持させて位置決め載置したキャリアベース(20)と、キャリアベース(20)を上下動させるエレベータ機構(21)と、エレベータ機構(21)によりキャリアベース(20)上のキャリア(2)が出入れされる洗浄槽(19)とを具備する。尚、キャリアベース(20)上で立てて位置決め載置されたキャリア(2)内の半導体ウェーハ(1)は、そのキャリア(2)の開口部から底部に向けて水平方向から7〜10°の範囲内で下方傾斜した状態で保持されるようにすることが好ましい。
請求項（抜粋）：
多数のウェーハ部材を定ピッチで整列収納するキャリアを、ウェーハ部材が水平方向から所定角度傾斜した状態で保持させて位置決め載置したキャリアベースと、キャリアベースを上下動させるエレベータ機構と、エレベータ機構によりキャリアベース上のキャリアが出入れされる洗浄槽とを具備したことを特徴とする洗浄処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/68
