特許
J-GLOBAL ID：200903081296755236
台形パターン描画方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
井島 藤治 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-220991
公開番号（公開出願番号）：特開平7-078739
出願日： 1993年09月06日
公開日（公表日）： 1995年03月20日
要約：
【要約】【目的】 どのような台形パターンであっても、高い精度で高速に描画を行うことができる台形パターン描画方法を実現する。【構成】 重ね回数kと矩形描画ビームをずらす最大ピッチPaが指定され、描画台形の最大傾斜角Maが求められる。次に、ショットすべき細長い矩形ビームのx方向の長さXDnが計算される。この長さXDnは、矩形ビームのx方向の長さの変化率βとショットの回数によって求めることができる。次に、ショットする矩形ビームのピッチpの演算を行う。このピッチpは、次の演算によって求められる。p=Pc=XDn・Ma/k次に、ショットする矩形ビームのy辺の長さYDnがそれまでのピッチを加算することによって求められる。
請求項（抜粋）：
第1のアパーチャの開口像を第2のアパーチャ上に結像し、第2のアパーチャの開口を通過した細長い矩形断面の荷電粒子ビームを被描画材料上に投射すると共に、細長い矩形断面の荷電粒子ビームの長さを変えながら荷電粒子ビームの投射位置を移動させ、台形パターンの描画を行う台形パターン描画方法において、細長い矩形断面の荷電粒子ビームの重なり回数kを指定し、描画すべき台形パターンの最大傾斜角Maと、分割矩形ビームのx方向の辺の長さXDnとにより、分割すべき矩形ビームのピッチPcをPc=(XDn/k)・Maによって求めるようにした台形パターン描画方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 541 J
, H01L 21/30 541 Q
