特許
J-GLOBAL ID：200903081302151364
ウェハ洗浄方法及びウェハ洗浄装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
尾川 秀昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-202989
公開番号（公開出願番号）：特開平7-037855
出願日： 1993年07月23日
公開日（公表日）： 1995年02月07日
要約：
【要約】【目的】 ウェハ1を洗浄液で洗浄し、洗浄された該ウェハを回転させると共に少なくとも該ウェハの回転中心部にガス噴射することにより乾燥するウェハ洗浄方法において、ウェハ1上のパーティクルを低減させる。【構成】 洗浄後ウェハ1の回転による乾燥によって該ウェハ上の洗浄液が充分に減少した後上記ガス噴射による乾燥を開始することとする。洗浄液が充分に減少しているか否かは、ウェハ1上に水により生じる干渉縞が存在しているか否かを例えばビデオカメラ10を用いて検出しその結果に基づいて判定する。
請求項（抜粋）：
ウェハを洗浄液で洗浄し、洗浄された該ウェハを回転させると共に少なくとも該ウェハの回転中心部にガス噴射することにより乾燥するウェハ洗浄方法において、洗浄後上記ウェハの回転による乾燥によって該ウェハ上の洗浄液が充分に減少した後上記ガス噴射による乾燥を開始することを特徴とするウェハ洗浄方法
IPC (3件)：
H01L 21/304 351
, H01L 21/304 341
, H01L 21/304
