特許
J-GLOBAL ID:200903081303273510

研磨装置および研磨方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青山 葆 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-149638
公開番号(公開出願番号):特開2000-334656
出願日: 1999年05月28日
公開日(公表日): 2000年12月05日
要約:
【要約】【課題】 ワークを取り換える都度、リテーナリングを取り換える必要のない研磨装置および研磨方法を提供する。【解決手段】 研磨パッド(25)が置かれた回転テーブル(27)を回転させてワーク(21)を研磨パッド(25)で研磨するに際し、ワーク保持具(22)に保持されたワーク(21)を第1押圧手段(210)で研磨パッド(25)に押し付けるとともに、ワーク(21)の全周を包囲するように配置させたリテーナリング(23)を、独立した第2押圧手段(220)でリテーナリング(23)を押し付けることにより、リテーナリング(23)が研磨されて磨耗した場合でも、引き続き、リテーナリング(23)が研磨パッド(25)に押し付けられるようにする。
請求項(抜粋):
ワークの被加工面を研磨パッドにより研磨する装置であって、a)ワークを保持するワーク保持具;b)ワークの被加工面を研磨パッドに押し付ける第1押圧手段;c)ワークの全周を包囲するリテーナリング;d)リテーナリングを研磨パッドに押し付ける第2押圧手段;e)研磨パッドを支持するテーブル;およびf)ワークに対して研磨パッドを相対的に移動させる手段を有して成る研磨装置。
IPC (2件):
B24B 37/04 ,  H01L 21/304 622
FI (2件):
B24B 37/04 E ,  H01L 21/304 622 G
Fターム (10件):
3C058AA07 ,  3C058AA09 ,  3C058AA11 ,  3C058AA12 ,  3C058AB01 ,  3C058AB04 ,  3C058BA05 ,  3C058BC02 ,  3C058CB04 ,  3C058CB07

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