特許
J-GLOBAL ID：200903081311292159
真空蒸着装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-083426
公開番号（公開出願番号）：特開平9-272976
出願日： 1996年04月05日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：
【要約】【課題】 メタルマスクを基板に吸着するために磁化部材を用いると、基板を加熱するための、ヒータの輻射熱を遮る。さらに、基板を回転させながら蒸着を行うような場合、磁化部材が基板上にあるため回転機構部に大きな負荷をかけたり回転を阻害しないための構造が複雑になる。また、静電吸着を用いるために新たな誘電体層を用いる場合、この誘電体層は、成膜パターンを得るためのメタルマスクの開口部と同形状の開口部を有する必要があり且つ、メタルマスクとこの誘電体層は高精度な相対位置関係が要求される。【解決手段】 蒸着用マスクの全表面を絶縁膜で覆うとにより、静電吸着に必要な構成を得る。基板の回転部以外のところに電源を設け且つ、この電源と回転部との間に電気的、機械的に接続の開閉が可能なスイッチを設ける。
請求項（抜粋）：
真空排気系を備えた真空容器内の下部に設けられた着材料の蒸発源と、前記蒸発源の上部に位置し、薄膜を形成する基板を保持する基板ホルダーと、前記基板ホルダーの下部に位置し、基板表面に形成するパターンと同一の開口部を有し、表面が絶縁物で被覆された金属製マスクを支持するマスクホルダーとを有し、かつ前記基板ホルダーに支持された基板と該マスクホルダーに支持された金属製マスクとの間に電圧を印加する手段を有する真空蒸着装置。
IPC (4件)：
C23C 14/50
, C23C 14/04
, H01L 21/203
, H05K 3/14
C23C 14/50 F
, C23C 14/04 A
, H01L 21/203 Z
, H05K 3/14 B
