特許
J-GLOBAL ID：200903081314067121
誘電体膜
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-006333
公開番号（公開出願番号）：特開平10-204638
出願日： 1997年01月17日
公開日（公表日）： 1998年08月04日
要約：
【要約】【課題】 法線Va,Vbの方向が互いに異なる2以上の膜形成面2a,2bについて、屈折率の低下及び水の侵入による経時変化という問題を生ずることなく、容易に形成できる誘電体膜を提供する。【解決手段】 金属分子を含む材料を膜形成面2a,2bの法線Va,Vbに対して傾斜して入射させて被着させた後、アニール処理して形成されたものとする。
請求項（抜粋）：
金属分子を含む材料が被着される膜形成面の法線に対して傾斜して入射された後、アニール処理されて形成された誘電体膜。
IPC (3件)：
C23C 14/58
, G02B 1/11
, G02B 5/00
C23C 14/58 A
, G02B 5/00 Z
, G02B 1/10 A
