特許
J-GLOBAL ID：200903081317873625
熱処理装置およびその温度制御方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-096950
公開番号（公開出願番号）：特開平7-283163
出願日： 1994年04月11日
公開日（公表日）： 1995年10月27日
要約：
【要約】【目的】 温度センサを使用せずとも最適な温度制御が可能な熱処理装置およびその温度制御方法を提供する。【構成】 本発明によれば、まず時系列獲得モードにおいて、温度センサが設置されたダミーウェハを用いて最適な熱処理を行った場合の加熱装置5の出力を時系列データとして獲得しメモリ18cに格納しておく。そして、実際の処理時には、適当な時点でメモリ18cに格納された時系列データと同期をとり、その後は、その時系列データを逐次読み出して加熱装置5を制御することにより、ダミーウェハを処理した場合と同様の熱処理環境を再現することが可能である。
請求項（抜粋）：
処理室内に配列された被処理体を、その処理室の外部に設置された温調手段により昇温して、その処理室内に導入された処理ガスにより熱処理するための熱処理装置において、前記処理室内に配列されたダミーウェハに対して前記処理ガスにより最適な熱処理を施した際の前記温調手段の出力を時系列データとして記憶するための記憶手段と、実際に被処理体を熱処理する際に、前記時系列データに基づいて前記温調手段の出力を時系列的に制御するための温度制御器とを備えたことを特徴とする、熱処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/22 511
, H01L 21/22 501
, H01L 21/31
