特許

J-GLOBAL ID：200903081321641526

荷電粒子ビーム装置およびその洗浄方法

発明者： 小笠原 宗博 ,  大歳 研司 ,  吉武 秀介 ,  滝川 忠宏
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-116386
公開番号（公開出願番号）：特開平9-306803
出願日： 1996年05月10日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：

【要約】【課題】 荷電粒子ビームを用いて高精度のパタ-ンを描画することを可能とする描画装置、およびその洗浄方法を提供することを目的とする。【解決手段】 電子光学鏡筒と、この電子光学鏡筒内を通過する荷電粒子ビームを偏向させる偏向手段と、前記電子光学鏡筒内の少なくとも一部をラジカルまたはプラズマを用いて洗浄する洗浄手段と、前記偏向手段により偏向した荷電粒子ビームの所定測定値の変動を検出する検出手段と、前記荷電粒子ビームの所定測定値の変動の検出値が所定の範囲を越えるときに、前記洗浄手段を動作させる手段とを具備することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

電子光学鏡筒と、この電子光学鏡筒内を通過する荷電粒子ビームを偏向させる偏向手段と、前記電子光学鏡筒内の少なくとも一部をラジカルまたはプラズマを用いて洗浄する洗浄手段と、前記偏向手段により偏向した荷電粒子ビームの所定測定値の変動を検出する検出手段と、前記荷電粒子ビームの所定測定値の変動の検出値が所定の範囲を越えるときに、前記洗浄手段を動作させる手段とを具備することを特徴とする荷電粒子ビーム装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  H01L 21/302 ,  H01L 21/304 341

FI (5件)：

H01L 21/30 541 J ,  H01L 21/304 341 D ,  H01L 21/30 541 B ,  H01L 21/30 541 Z ,  H01L 21/302 Z