特許

J-GLOBAL ID：200903081325107583

プラズマ処理装置および方法

発明者： 田中 政博
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 中村 純之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-000935
公開番号（公開出願番号）：特開2000-200783
出願日： 1999年01月06日
公開日（公表日）： 2000年07月18日
要約：

【要約】【課題】プラズマ処理により基板上に形成あるいはドライエッチングする膜そのものの情報を直接的かつ簡易に取り込み、基板に対するプラズマ処理が正しく行なわれているかを確実、正確に監視する。【解決手段】基板4を載せるホルダ3に小さな窓8を設け、その窓8を通してその下に配置した光ファイバ9で透明基板4を裏側から観察することにより、基板4上で起こっている変化を直接モニタする。

請求項（抜粋）：

真空容器と、前記容器内を排気する手段と、前記容器内にプラズマ処理用ガスを導入する手段と、放電用電極と、プラズマ処理すべき基板を保持するホルダと、前記容器内に光の放出、取り込みのうち少なくとも取り込みを行なう先端部が配置された光ファイバとを有することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (6件)：

H01L 21/31 ,  C23C 16/505 ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/3065 ,  H05H 1/46

FI (6件)：

H01L 21/31 C ,  C23C 16/50 B ,  C23C 16/52 ,  C23F 4/00 ,  H05H 1/46 A ,  H01L 21/302 B

Fターム (29件)：

4K030FA01 ,  4K030KA37 ,  4K030KA39 ,  4K030KA41 ,  4K030KA46 ,  4K030KA49 ,  4K057DA14 ,  4K057DA16 ,  4K057DA19 ,  4K057DD01 ,  4K057DJ10 ,  4K057DM02 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB02 ,  5F004BB18 ,  5F004BC08 ,  5F004CA09 ,  5F004CB09 ,  5F045AA08 ,  5F045BB10 ,  5F045EB03 ,  5F045EH04 ,  5F045EH08 ,  5F045EH14 ,  5F045EH19 ,  5F045GB09 ,  5F045GB10 ,  5F045GB17