特許

J-GLOBAL ID：200903081334782013

CVD用原料溶液気化装置

発明者： 尾鍋 和憲 ,  定方 伸行 ,  斉藤 隆 ,  長屋 重夫 ,  下之園 隆明
出願人/特許権者： 株式会社フジクラ ,  中部電力株式会社
代理人 (1件)： 志賀 正武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-246657
公開番号（公開出願番号）：特開平10-088354
出願日： 1996年09月18日
公開日（公表日）： 1998年04月07日
要約：

【要約】【課題】 成膜効率の向上が可能で、膜質等の特性の安定した酸化物超電導薄膜などの薄膜を形成することができるCVD用原料溶液気化装置の提供。【解決手段】 ミスト状の原料溶液34を噴霧するCVD用原料溶液供給装置30の吹き出し口37aを配設するための取り付け口52を有する容器状の気化器本体51と、該気化器本体51外部に配設され、該気化器本体51内部を加熱するための第一の加熱手段53と、該気化器本体51内に配設された吹き出し口37aの前方に設けられ、ミスト状の原料溶液34を気化するための第二の加熱手段54と、気化器本体の取り付け口に設けられ、気化器本体内に配設されるCVD用原料溶液供給装置の吹き出し口に気化した原料溶液が到達するのを防止するカバーが備えられてなるCVD用原料溶液気化装置50。

請求項（抜粋）：

ミスト状の原料溶液を噴霧するCVD用原料溶液供給装置の吹き出し口を配設するための取り付け口を有する容器状の気化器本体と、該気化器本体外部に配設され、該気化器本体内部を加熱するための第一の加熱手段と、該気化器本体内に配設されたCVD用原料溶液供給装置の吹き出し口の前方に設けられ、ミスト状の原料溶液を気化するための第二の加熱手段を少なくとも備えてなるものであることを特徴とするCVD用原料溶液気化装置。

IPC (5件)：

C23C 16/44 ,  C30B 29/22 501 ,  H01B 12/06 ZAA ,  H01B 13/00 565 ,  C30B 25/14

FI (5件)：

C23C 16/44 C ,  C30B 29/22 501 E ,  H01B 12/06 ZAA ,  H01B 13/00 565 D ,  C30B 25/14