特許
J-GLOBAL ID：200903081340341401
基板処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小谷 悦司 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-018751
公開番号（公開出願番号）：特開平9-213669
出願日： 1996年02月05日
公開日（公表日）： 1997年08月15日
要約：
【要約】【課題】 設備コストを廉価に抑えた上で、基板の薬液処理部から水洗部への搬送時に、基板の表裏面の液切りを確実に行うことができ、かつ、薬液と洗浄水との混合が起こらないようにする。【解決手段】 複数の処理槽内で基板Bを搬送させつつ、それぞれ異なる処理液を基板Bに供給して所定の処理を施す基板B処理装置において、上記複数の処理槽内で基板Bを所定の搬送方向に搬送する搬送手段8と、複数の処理槽の一つである薬液処理槽内で薬液を基板Bに供給する薬液供給ノズルと、薬液処理槽21の搬送方向の下流側に隣接する液置換槽41内で、基板Bの一方の主面に向かう方向であり、かつ上記搬送方向に向かう方向に、薬液と異なる洗浄水を帯状に吐出する第1リキッドナイフ421と、上記第1リキッドナイフ421より上記搬送方向の下流側に配置され記液置換槽41内で、一方の主面に向かう方向であり、かつ基板搬送方向と逆方向に向かう方向に、洗浄水を帯状に吐出する第2リキッドナイフ422とを有している。
請求項（抜粋）：
複数の処理槽内で基板を搬送させつつ、それぞれ異なる処理液を基板に供給して所定の処理を施す基板処理装置において、上記複数の処理槽内で基板を所定の搬送方向に搬送する基板搬送手段と、上記複数の処理槽の一つである第1処理槽内で第1処理液を基板に供給する第1処理液供給手段と、上記第1処理槽の上記搬送方向の下流側に隣接する第2処理槽内で、基板の一方の主面に向かう方向であり、かつ上記搬送方向に向かう方向に、第1処理液と異なる第2処理液を帯状に吐出する第1リキッドナイフと、上記第1リキッドナイフより上記搬送方向の下流側に配置され、上記第2処理槽内で、上記一方の主面に向かう方向であり、かつ上記搬送方向と逆方向に向かう方向に、上記第2処理液を帯状に吐出する第2リキッドナイフと、を有することを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304
, G02F 1/1333 500
, G03F 7/26
H01L 21/304 341 N
, H01L 21/304 341 M
, G02F 1/1333 500
, G03F 7/26
