特許

J-GLOBAL ID：200903081340709000

ポジ型レジスト組成物

発明者： 青合 利明 ,  児玉 邦彦
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 小栗 昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057068
公開番号（公開出願番号）：特開2002-255959
出願日： 2001年03月01日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】 化学増幅型画像形成材料に有用な新規な化合物を提供すること、及び高感度、高解像力を有し、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 新規なオニウム塩化合物と、そのオニウム塩化合物と特定の酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)で表される化合物。【化1】式(I)中、R1、R2は同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を表し、R3、R4は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を表す。Yはアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、-O-R5、-S-R6、-N(R7)(R8)を表す。R5、R6は同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を表し、R7、R8は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、ヒドロキシ基を表す。またR1〜R4及びYの内の2つが結合し、環を形成してもよい。X-はスルホン酸のアニオンを表す。

IPC (7件)：

C07D333/46 ,  C07D409/04 ,  C08F 20/18 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039 601

FI (7件)：

C07D333/46 ,  C07D409/04 ,  C08F 20/18 ,  C08K 5/36 ,  C08L101/00 ,  G03F 7/004 503 A ,  G03F 7/039 601

Fターム (50件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4C063AA01 ,  4C063BB04 ,  4C063CC92 ,  4C063DD03 ,  4C063EE10 ,  4J002AA001 ,  4J002BG041 ,  4J002BG051 ,  4J002EV006 ,  4J002EV236 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03 ,  4J100AJ02R ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM21R ,  4J100BA04R ,  4J100BA08R ,  4J100BA58R ,  4J100BC26P ,  4J100BC26Q ,  4J100BC26R ,  4J100BC53P ,  4J100BC53Q ,  4J100BC53R ,  4J100CA01 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100CA31 ,  4J100DA39 ,  4J100HA53 ,  4J100HC69 ,  4J100HC71 ,  4J100JA38