特許

J-GLOBAL ID：200903081349737103

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 丹 史郎 ,  藤森 亨 ,  青合 利明
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-267026
公開番号（公開出願番号）：特開平11-109629
出願日： 1997年09月30日
公開日（公表日）： 1999年04月23日
要約：

【要約】【課題】 現像後の残渣(スカム)の発生を防止でき、且つ高解像力を有する優れた化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】(a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が特定の基で置換されている樹脂Aと、(b)第3級アルキルエステル基及び第3級アルキルカーボネート基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する非ポリマー型溶解性阻止化合物と、(c)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(d)溶剤とを含有する。

請求項（抜粋）：

(a)フェノール性水酸基を含有するアルカリ可溶性樹脂における該フェノール性水酸基の10〜80%が下記一般式(I)で示される基で置換されている樹脂A(b)第3級アルキルエステル基及び第3級アルキルカーボネート基の中から選ばれる少なくとも1種の基を有し、アルカリ水溶液中での溶解度が酸の作用により増大する非ポリマー型溶解性阻止化合物、(c)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(d)溶剤を少なくとも含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】式中、R1は、炭素数1〜4個のアルキル基から選ばれた置換基を表す。Wは、酸素原子、窒素原子、イオウ原子、リン原子及び珪素原子のうち少なくとも1つの原子を含有する有機基、アミノ基、アンモニウム基及びメルカプト基からなる群から選ばれた原子団を表す。nは1から4までの自然数を表す。

IPC (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R