バッファ装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金山聡 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-193921
公開番号（公開出願番号）：特開2000-025931
出願日： 1998年07月09日
公開日（公表日）： 2000年01月25日
要約：

【要約】【課題】できるだけ場所をとらず、所定の時間経過後に処理基板を外部へ確実に送り出すことができるバッファ装置を提供する。【解決手段】処理基板をほぼ水平な状態で搬送でき、且つ、その上に静止して置き、保管することができる、複数のロールからなるコンベア兼用の段を、複数重ねて棚状に設けた棚部と、棚部全体を一体として、上下方向にその位置を管理しながら移動する上下移動部と、処理基板の受け入れを検知するセンサー部と、棚部の各段の処理基板の有無の管理と、保管されている処理基板をコンベア搬送する各段の動作における時間管理、棚段の上下動作における時間管理を行い、且つ、各部の動作を関連つけて制御する制御部とを備え、処理基板の受け入れの際には、処理基板が置かれていない、所定の空の段の位置を、受け入れする処理基板の高さに合わせて、処理基板を内部へ受け入れするもので、処理基板の送り出しの際には、所定の時間保管された処理基板の置かれている段の位置を、送り出す位置に合わせて、処理基板を外部へ送り出すものである。

請求項（抜粋）：

処理基板を、処理する処理工程ラインの途中において、所定の時間だけ保管するためのパッファ装置であって、処理基板をほぼ水平な状態で搬送でき、且つ、その上に静止して置き、保管することができる、複数のロールからなるコンベア兼用の段を、複数重ねて棚状に設けた棚部と、棚部全体を一体として、上下方向にその位置を管理しながら移動する上下移動部と、処理基板の受け入れを検知するセンサー部と、棚部の各段の処理基板の有無の管理と、保管されている処理基板をコンベア搬送する各段の動作における時間管理、棚段の上下動作における時間管理を行い、且つ、各部の動作を関連つけて制御する制御部とを備え、処理基板の受け入れの際には、処理基板が置かれていない、所定の空の段の位置を、受け入れする処理基板の高さに合わせて、処理基板を内部へ受け入れするもので、処理基板の送り出しの際には、所定の時間保管された処理基板の置かれている段の位置を、送り出す位置に合わせて、処理基板を外部へ送り出すものであることを特徴とするバッファ装置。

IPC (4件)：

B65G 37/00 , B65G 1/06 511 , G03F 7/20 501 , H01J 9/46

FI (4件)：

B65G 37/00 B , B65G 1/06 511 B , G03F 7/20 501 , H01J 9/46 A

Fターム (19件)：

2H097BA06 , 2H097DB01 , 2H097DB07 , 2H097LA10 , 3F022AA08 , 3F022CC02 , 3F022FF26 , 3F022HH13 , 3F022JJ16 , 3F022MM01 , 3F022MM13 , 3F022MM22 , 3F022MM27 , 3F022NN05 , 3F022NN42 , 3F022NN50 , 3F022NN51 , 3F022QQ12 , 5C012AA05

引用特許：

審査官引用 (4件)

処理装置及び処理方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-074287 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
特開昭59-227612
特開昭63-139811

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