特許
J-GLOBAL ID:200903081368513070

走査型投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高梨 幸雄
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平10-172159
公開番号(公開出願番号):特開平11-354425
出願日: 1998年06月04日
公開日(公表日): 1999年12月24日
要約:
【要約】【課題】 被走査面上を均一な光量分布としてレチクル面上のパターンを投影光学系によりウエハ面上に高い光学性能を有して走査投影することのできる走査型投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法を得ること。【解決手段】 走査方向の幅を調整して露光量の均一化を達成する場合にも、幅調整によってウエハ面に供給される露光量の精度に影響を及ぼさない様にするために、照射範囲の走査方向の幅が調整によって変化しない固定した領域を設け、露光量制御手段でモニタする光量とウエハ面上の光量の関係付けを、この固定した領域に対応する位置における走査方向に積分した光量を用いて行うこと。
請求項(抜粋):
第1可動ステージに載置した第1物体面上のパターンを照明系からの光束で照明し、該第1物体面上のパターンを投影光学系により第2可動ステージに載置した第2物体面上に走査手段により第1の方向に該第1,第2可動ステージを該投影光学系の投影倍率に対応させた速度比で同期させて走査投影露光する走査型投影露光装置において、該照明系による該第1物体面のパターンの照明範囲は第1の方向よりも第1の方向と直交する第2の方向に長い開口を有するスリットであり、該照明範囲の第1の方向に関する幅を第2方向の各領域に対応して可変にする調整手段と、該第1物体面を照明する光束の一部を取り出して、その光量をモニターすることで該第2物体面上への露光量を制御する露光量制御手段とを有し、該調整手段は、第2の方向の複数の領域のうち1つの領域aでの第1の方向の幅は固定として、それ以外の各領域における幅を可変にしており、該第2可動ステージ上に配置した照度計によって該第2物体面上における該領域aに対応する領域での光量を測定し、該照度計の測定結果と、該露光量制御手段によってモニターした光量との関係付けを行っていることを特徴とする走査型投影露光装置。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 518 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 D
引用特許:
出願人引用 (3件)
  • 走査型露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-176781   出願人:キヤノン株式会社
  • 特開平1-298719
  • 特開平1-175730
審査官引用 (1件)
  • 走査型露光装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平5-176781   出願人:キヤノン株式会社

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