特許
J-GLOBAL ID：200903081369282676
回転処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-122718
公開番号（公開出願番号）：特開平5-299407
出願日： 1992年04月16日
公開日（公表日）： 1993年11月12日
要約：
【要約】【目的】 軸受側からの発塵の影響等をなくすことができる回転処理装置を提供することにある。【構成】 箱状の筐体50内に処理液の付着した被処理体Wを保持する被処理体保持機構52を収容すると共にこの保持機構52の回転軸92を回転可能に軸受60に支持する。そして、この回転軸92に筐体50内をシールする磁性流体シール部材176を設けると共に筐体側に狭い空間部180を形成し、この空間部180にパージ用の清浄気体、例えば窒素ガスを供給する。
請求項（抜粋）：
軸受に回転自在に支持された回転軸に取り付けられ、処理液の付着した被処理体の保持された被処理体保持機構を筐体内で回転させつつ前記被処理体を処理する回転処理装置において、前記回転軸に前記筐体内をシールするために磁性流体シール部材を形成すると共に前記回転軸を支持する軸受及び前記磁性流体シール部材よりも筐体側に狭い空間部を形成し、前記空間部に清浄気体を供給するように構成したことを特徴とする回転処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/304 351
, B04B 3/00
, F26B 5/08
, F26B 11/08
