特許

J-GLOBAL ID：200903081372674747

電子ビーム露光方法

発明者： 十川 文博 ,  堀 義和
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-275185
公開番号（公開出願番号）：特開平5-114549
出願日： 1991年10月23日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：

【要約】【目的】 電子ビーム露光方法に関するものであり、光素子に要求される滑らかなエッジのパターンを形成することが可能な電子ビーム露光方法を提供する。【構成】 描画すべきパターンを、その平行な辺が描画領域の座標に対し、任意の方向に向いており、また斜めの辺の角度が任意である台形に分割して表現し、塗りつぶしのための走査方向が、台形の1組の平行な辺の方向に一致しているため、光素子を構成する、曲線パターンを滑らかに形成することが可能となる。

請求項（抜粋）：

描画すべき図形を、方向および斜めの辺の角度が任意の台形に分割することにより描画する電子ビーム露光方法。