特許

J-GLOBAL ID：200903081373505809

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 池田 文彦 ,  高橋 建太 ,  鎌田 義隆
出願人/特許権者： シプレイ・ファーイースト株式会社
代理人 (1件)： 津国 肇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-366076
公開番号（公開出願番号）：特開2001-183824
出願日： 1999年12月24日
公開日（公表日）： 2001年07月06日
要約：

【要約】【課題】 高感度・高残膜率・高密着性を有する、特に、感度・残膜特性を劣化させることなく、高い密着性を付与しうる、ポジ型フォトレジストの提供。【解決手段】 m/p/o-クレゾールノボラック樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、該樹脂中におけるo-クレゾール残基の含有率が、m/p/o-クレゾール残基の合計に対し、1〜50%であり;該樹脂の重量平均分子量が、2,000〜10,000であることを特徴とする組成物。

請求項（抜粋）：

m/p/o-クレゾールノボラック樹脂を含有するポジ型フォトレジスト組成物において、該樹脂中におけるo-クレゾール残基の含有率が、m/p/o-クレゾール残基の合計に対して1〜50%であり;該樹脂の重量平均分子量が、2,000〜10,000であることを特徴とする組成物。

IPC (5件)：

G03F 7/023 511 ,  C08K 5/42 ,  C08L 61/08 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/023 511 ,  C08K 5/42 ,  C08L 61/08 ,  G03F 7/36 ,  H01L 21/30 502 R

Fターム (24件)：

2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AA14 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB29 ,  2H025CB51 ,  2H025CB55 ,  2H096AA25 ,  2H096AA26 ,  2H096BA09 ,  2H096HA11 ,  2H096LA30 ,  4J002CC051 ,  4J002EQ036 ,  4J002EV246 ,  4J002FD206 ,  4J002GP03