特許

J-GLOBAL ID：200903081375172874

高水分含有物質の回分式真空乾燥方法および回分式真空乾燥装置

発明者： 林田 直正 ,  井手 勝二 ,  近藤 典孝
出願人/特許権者： 三井鉱山株式会社
代理人 (1件)： 阿部 稔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-113405
公開番号（公開出願番号）：特開平7-301485
出願日： 1994年05月02日
公開日（公表日）： 1995年11月14日
要約：

【要約】【目的】 少ない動力費で経済的に高水分含有物質の回分式真空乾燥を行なう。【構成】 加熱用ジャケット1および均一な混合用攪拌機2を備えた乾燥機本体3と、蒸発水分を吸引して乾燥機本体3内を負圧にする真空ポンプ4および吸引した蒸発水分を凝縮するためのコンデンサ5を備えた真空装置6とからなる回分式真空乾燥装置により回分式真空乾燥を行なう方法において、乾燥機本体3の内部の真空を保持しつつ処理物を連続的あるいは断続的に供給し、真空装置6のコンデンサ5における交換熱量を計測して処理物の供給速度を制御することにより乾燥機本体3内に保有する処理物量を最適に維持するように処理物供給量を制御する。

請求項（抜粋）：

加熱用ジャケット1および均一な混合用攪拌機2を備えた乾燥機本体3と、蒸発水分を吸引して乾燥機本体3内を負圧にする真空ポンプ4および吸引した蒸発水分を凝縮するためのコンデンサ5を備えた真空装置6とからなる回分式真空乾燥装置により回分式真空乾燥を行なう方法において、乾燥機本体3の内部の真空を保持しつつ処理物を連続的あるいは断続的に供給し、真空装置6のコンデンサ5における交換熱量を計測して処理物の供給速度を制御することにより乾燥機本体3内に保有する処理物量を最適に維持するように処理物供給量を制御することを特徴とする高水分含有物質の回分式真空乾燥方法。

IPC (4件)：

F26B 5/04 ,  B01D 1/00 ,  C02F 11/12 ,  F26B 25/14

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 高水分含有物質の乾燥方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-220920   出願人：三井三池化工機株式会社
• 特開昭60-238676
  
• 特開昭64-034500