成膜方法および成膜装置、並びにカラーフィルター製造方法

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-008345
公開番号（公開出願番号）：特開2003-213414
出願日： 2002年01月17日
公開日（公表日）： 2003年07月30日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】基板に成膜する際、搬送キャリアへの基板等の装着不良を事前に検出して、長期の装置停止、稼働率低下を防止する成膜方法及び成膜装置、並びにこれらを用いたカラーフィルター製造方法を提供する。【解決手段】(イ)基板、マスク及び該マスクを保持するマスクホルダからなるワーク20をキャリアプレート7に装着するワーク装着工程と、(ロ)該キャリアプレート7のワーク20の装着側で、プレート支持フレーム9とキャリアプレート7とを相対的に近接移動させてワーク20を保持するワーク保持工程と、(ハ)ワーク20を成膜室に搬入し、前記基板の表面に所定の物質を成膜する成膜工程と、を有する成膜方法において、(ニ)前記ワーク保持工程の前に、レーザーセンサ17の光を前記マスクホルダに貼付した再帰性反射シート15に照射し、再帰性反射シート15からの反射光の有無を検知することを特徴とする成膜方法。

請求項（抜粋）：

基板、マスク及び該マスクを保持するマスクホルダからなるワークをキャリアプレートに装着するワーク装着工程と、キャリアプレートのワークの装着側でプレート支持フレームとキャリアプレートとを相対的に移動させてワークを保持するワーク保持工程と、ワークを成膜室に搬入し、基板の表面に所定の物質を成膜する成膜工程とを有する成膜方法において、ワーク保持工程の前に、キャリアプレート及びプレート支持フレームの移動にともなう移動領域より外れた位置からレーザー光を前記マスクホルダに貼付した再帰性反射シートに照射し、該再帰性反射シートからの反射光の有無を検知することを特徴とする成膜方法。

IPC (3件)：

C23C 14/50 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505

FI (4件)：

C23C 14/50 K , C23C 14/50 F , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505

Fターム (28件)：

2H048BA02 , 2H048BA11 , 2H048BA45 , 2H048BB02 , 2H048BB14 , 2H048BB37 , 2H048BB44 , 2H091FA02Y , 2H091FA14 , 2H091FC10 , 2H091FC26 , 2H091FC29 , 2H091FC30 , 2H091FD04 , 2H091FD14 , 2H091FD23 , 2H091FD24 , 2H091LA03 , 2H091LA11 , 2H091LA12 , 2H091LA13 , 2H091LA15 , 4K029AA09 , 4K029AA24 , 4K029BA45 , 4K029BC09 , 4K029EA00 , 4K029KA01

引用特許：

審査官引用 (2件)

椅子の支持装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-209795 出願人：タカノ株式会社, コクヨ株式会社
特開昭62-057517

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