特許

J-GLOBAL ID：200903081388374328

p-tert-ブトキシ-αまたはβ-トリアルコキシシリルエチルベンゼンの製造方法

発明者： 篠原 紀夫 ,  工藤 宗夫 ,  隈元 信満 ,  梅野 正行
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社 ,  北興化学工業株式会社
代理人 (1件)： 山本 亮一 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-031895
公開番号（公開出願番号）：特開平6-247988
出願日： 1993年02月22日
公開日（公表日）： 1994年09月06日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 本発明は耐候性、耐熱性、耐湿性、染色性および耐酸素プラズマ性にすぐれていることから、塗料、半導体の微細加工材料などに有用とされるp-tert-ブトキシ-αまたはβ-トリアルコキシシリルエチルベンゼンの製造方法の提供を目的とするものである。【構成】 本発明によるp-tert-ブトキシ-αまたはβ-トリアルコキシシリルエチルベンゼンの製造方法は、式 HSiR3(ここにRはアルコキシ基)で示されるトリアルコキシシランと、式【化9】で示されるp-tert-ブトキシスチレンとを、重合禁止剤の存在下にロジウム-トリ有機リン錯体を触媒として反応させて、式【化10】[ここにA1、A2は水素原子及び式-SiR3 (Rはアルコキシ基)で表わされる基から選択される異種の基]で示されるp-tert-ブトキシ-αまたはβ-トリアルコキシシリルエチルベンゼンを得ることを特徴とするものである。

請求項（抜粋）：

式 HSiR3(ここにRはアルコキシ基)で示されるトリアルコキシシランと、式【化1】で示されるp-tert-ブトキシスチレンとを、重合禁止剤の存在下にロジウム-トリ有機リン錯体を触媒として反応させることを特徴とする式【化2】[ここにA1、A2は水素原子及び式-SiR3 (Rはアルコキシ基)で表わされる基から選択される異種の基]で示されるp-tert-ブトキシ-αまたはβ-トリアルコキシシリルエチルベンゼンの製造方法。

IPC (3件)：

C07F 7/18 ,  B01J 31/22 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-117681
  
• 特開昭51-036425
  
• 特開昭51-088923