特許
J-GLOBAL ID：200903081399549260
成膜装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宇高 克己
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-037267
公開番号（公開出願番号）：特開平7-243042
出願日： 1994年03月08日
公開日（公表日）： 1995年09月19日
要約：
【要約】【目的】 無駄が少なく、製品の歩留りが高い磁気記録媒体などの製造技術を提供することを目的とする。【構成】 飛来する粒子を支持体に堆積させることにより膜を構成する成膜装置であって、前記支持体に発生した皺を検出する皺検出手段と、この皺検出手段により皺の発生が検出されると、成膜作業を一時停止させる停止手段とを具備する成膜装置。
請求項（抜粋）：
飛来する粒子を支持体に堆積させることにより膜を構成する成膜装置であって、前記支持体に発生した皺を検出する皺検出手段と、この皺検出手段により皺の発生が検出されると、成膜作業を一時停止させる停止手段とを具備することを特徴とする成膜装置。
IPC (4件)：
C23C 14/56
, G11B 5/84
, G11B 5/85
, H01F 41/20
