特許

J-GLOBAL ID：200903081402035892

イオン注入装置

発明者： 高添 敏彦
出願人/特許権者： 東京エレクトロン株式会社 ,  バリアン・ジャパン株式会社
代理人 (1件)： 金本 哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-281362
公開番号（公開出願番号）：特開平10-106478
出願日： 1996年10月02日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】ブッシングの交換が容易で、その交換時期の延長が可能なイオン注入装置を提供する。【解決手段】 イオン源112を支持する支持板116と、イオンビーム発生容器124との間に設けられるブッシング120を、固定用の第1ブッシング120aと交換用の第2ブッシング120bとから構成する。また、第2ブッシング120bの内壁面に突起部120b’を形成し、さらにこの突起部120b’のイオンビームの引き出し方向とは異なる側に所定の溝を設ける。その結果、第2ブッシング120bの内壁面に反応生成物が付着して電気的に導通した場合、第2ブッシング120bのみを交換すればよく、交換作業が容易になる。さらに、上記突起部120b’及び溝を設けることで、反応生成物が付着する時間が延長され、第2ブッシング120bの交換時期が延長し、スループットが向上する。

請求項（抜粋）：

イオン源より発生したイオンを質量分析して所定のイオンを選択し、選択されたイオンを加速して被処理体内に注入するイオン注入装置において、高電圧部をグランド部材から絶縁するブッシングを備え、前記ブッシングは外筒部材と内筒部材とから構成され、前記内筒部材は前記外筒部材に対して着脱自在であるとともに、前記内筒部材は装着時に少なくとも前記外筒部材の内壁面のうち装置内雰囲気に曝される部分を覆うものであることを特徴とする、イオン注入装置。

IPC (2件)：

H01J 37/317 ,  H01L 21/265

FI (2件)：

H01J 37/317 Z ,  H01L 21/265 603 A