特許
J-GLOBAL ID:200903081406458747
画像記録材料
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
中島 淳 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-354175
公開番号(公開出願番号):特開2002-156757
出願日: 2000年11月21日
公開日(公表日): 2002年05月31日
要約:
【要約】【課題】 記録時のレーザーによるアブレーションが抑制され、形成された画像部の強度が高く、耐刷性に優れた平版印刷版を形成しうるネガ型画像記録材料を提供する。【解決手段】 (A)側鎖に下記一般式(1)又は一般式(2)で表される基と、下記一般式(3)又は一般式(4)で表される基と、をそれぞれ少なくとも1つ有する水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、及び、(C)(B)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光の露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物を含有する。式中、Rl〜R6は、1価の有機基を、A、Dは酸素原子、硫黄原子などを表し、一般式(3)はNH-Y-、一般式(4)は-Z-NH-Rであり、Y、Zは2価の有機基を表し、少なくとも一方は、-CO-または-SO2-を表す。【化1】
請求項(抜粋):
(A)側鎖に下記一般式(1)又は一般式(2)で表される基と、下記一般式(3)又は一般式(4)で表される基と、をそれぞれ少なくとも1つ有する水に不溶かつアルカリ水溶液に可溶な高分子化合物、(B)光熱変換剤、及び、(C)(B)光熱変換剤が吸収する事できる波長の光のヒートモード露光によりラジカルを生成するオニウム塩化合物を含有し、ヒートモード露光により画像記録可能であることを特徴とするヒートモード対応ネガ型画像記録材料。【化1】式(1)及び(2)中、Rl〜R6は、それぞれ独立に、1価の有機基を表す。Aは酸素原子、硫黄原子、または-N-R7を表す。Dは酸素原子、硫黄原子、-N-R7またはフェニレン基を表す。ここでR7は、水素原子又は1価の有機基を表す。-X-NH-Y- (3)-Z-NH-R (4)式(3)及び(4)中、X、Yは2価の有機基を表し、少なくとも一方は、-CO-または-SO2-を表す。Zは、-CO-または-SO2-を表し、Rは水素原子または1価の有機基を表す。
IPC (4件):
G03F 7/033
, B41N 1/14
, G03F 7/00 503
, G03F 7/027 502
FI (4件):
G03F 7/033
, B41N 1/14
, G03F 7/00 503
, G03F 7/027 502
Fターム (37件):
2H025AA12
, 2H025AA13
, 2H025AB03
, 2H025AC08
, 2H025AD01
, 2H025BC13
, 2H025BC19
, 2H025BC42
, 2H025BC53
, 2H025CA48
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB42
, 2H025CC11
, 2H025FA17
, 2H096AA06
, 2H096BA05
, 2H096BA06
, 2H096EA04
, 2H096EA23
, 2H096GA08
, 2H114AA04
, 2H114AA23
, 2H114AA24
, 2H114BA01
, 2H114BA06
, 2H114BA10
, 2H114DA03
, 2H114DA21
, 2H114DA34
, 2H114DA41
, 2H114DA52
, 2H114DA53
, 2H114DA55
, 2H114EA01
, 2H114EA03
, 2H114EA08
引用特許:
出願人引用 (3件)
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画像記録材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-249569
出願人:富士写真フイルム株式会社
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画像記録材料
公報種別:公開公報
出願番号:特願2000-055564
出願人:富士写真フイルム株式会社
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光重合性組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-363195
出願人:富士写真フイルム株式会社
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