特許

J-GLOBAL ID：200903081410447504

基板の処理装置

発明者： ローラント ルツプ ,  ヨハネス フエルクル
出願人/特許権者： シーメンス アクチエンゲゼルシヤフト
代理人 (1件)： 富村 潔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-159186
公開番号（公開出願番号）：特開平10-072281
出願日： 1997年06月02日
公開日（公表日）： 1998年03月17日
要約：

【要約】【課題】少なくとも1つの基板を処理するための装置において、安定した熱的及び機械的構成を得る。【解決手段】少なくとも1つの基板2A乃至2Dを処理するための装置は、基板と熱結合されたサセプタ3とこのサセプタを加熱する誘導加熱装置4を備える。誘導加熱装置とサセプタとは、サセプタに作用する電磁力が重力に対して平行に向くように、互いに配置されている。

請求項（抜粋）：

少なくとも1つの基板(2、2A乃至2E)を処理するための装置であって、a)少なくとも1つの基板(2、2A乃至2E)に熱結合されたサセプタ(3)と、b)少なくとも1つのサセプタ(3)を誘導加熱する誘導加熱装置(4)とを備え、c)この誘導加熱装置(4)と少なくとも1つのサセプタ(3)とが、誘導加熱装置(4)により少なくとも1つのサセプタ(3)に作用する電磁力(FEM)が重力(G)に対して少なくともほぼ平行に向くように互いに配置されていることを特徴とする基板の処理装置。

IPC (5件)：

C30B 25/10 ,  C23C 16/44 ,  C30B 29/36 ,  C30B 29/38 ,  H01L 21/205

FI (5件)：

C30B 25/10 ,  C23C 16/44 H ,  C30B 29/36 A ,  C30B 29/38 D ,  H01L 21/205