特許

J-GLOBAL ID：200903081412911976

洗浄方法

発明者： 佐藤 一夫 ,  越智 啓典
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 梶原 辰也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-342039
公開番号（公開出願番号）：特開平11-162907
出願日： 1997年11月27日
公開日（公表日）： 1999年06月18日
要約：

【要約】【課題】 シリコンウエハを洗浄する。【解決手段】 洗浄装置10は処理槽11、オーバーフロー槽12、循環路13、ポンプ16、濾過装置17、ヒータ18、過酸化水素水秤量槽21、アンモニア秤量槽22、純水秤量槽23および界面活性剤秤量槽24を備えており、処理槽11にはアンモニア、過酸化水素水、純水および陰イオン界面活性剤が予め秤量されて貯留される。シリコンウエハ1が界面活性剤が添加された洗浄液4に浸漬されると、シリコンウエハ1と異物2とはマイナス側に帯電し、互いの電気拆力がファンデルワールス力を上回るため、異物2はシリコンウエハ1から遊離する。洗浄液4は処理槽11からオーバーフロー槽12へ溢流して循環路13を循環する。洗浄液4に浮遊する異物2は濾過装置17で濾過されて除去される。【効果】 ウエハと異物との電気拆力が高められるため、確実に洗浄できる。

請求項（抜粋）：

アルカリ性溶液に界面活性剤が添加されて構成された洗浄液に被洗浄物が晒されて洗浄されることを特徴とする洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/39 ,  C11D 3/395

FI (5件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 L ,  C11D 3/04 ,  C11D 3/39 ,  C11D 3/395