特許

J-GLOBAL ID：200903081414203154

低エネルギーのSO2洗浄工程

発明者： ラバリー,パトリク・エム ,  サルリス,ジヨン・ニコラス ,  パリシ,ポール・ジヨセフ ,  ハツカ,レオ・イー
出願人/特許権者： カンソルブ・テクノロジーズ・インコーポレーテツド
代理人 (1件)： 小田島 平吉
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-522856
公開番号（公開出願番号）：特表2007-501694
出願日： 2004年06月25日
公開日（公表日）： 2007年02月01日
要約：

二酸化硫黄を、アミン塩を形成することができるアミン、熱に安定な塩及び亜硫酸塩を含有する吸収媒質とガス流を接触させることによりガス流から除去する。熱に安定な塩のレベルは、二酸化硫黄の濃厚なアミンの再生工程中に、吸収媒質のpHが吸収媒質中の亜硫酸塩のレベルが特定値まで減少された時の選択レベル又はそれより下にあるように選択される。二酸化硫黄を吸収するアミンは亜硫酸塩の値より低いpKaを有する。吸収剤がジアミンを含む場合は、消費済み吸収媒質は、少なくとも1種のアミン群が塩形態で残るような条件下で再生される。

請求項（抜粋）：

a)ガス流を、ガスから二酸化硫黄を吸収するための二酸化硫黄吸収剤を含有する希薄水性吸収媒質と接触させて二酸化硫黄の希薄な処理ガス流及び使用済み吸収媒質を形成すること、 b)ある温度で使用済み吸収媒質から気体の二酸化硫黄を水蒸気ストリッピングして、再生水性吸収媒質を形成すること、 c)気体の二酸化硫黄を回収すること、 d)再生水性吸収媒質をモニターし、そして再生水性吸収媒質のpHを選択されるpHレベルに維持するように、熱に安定な塩のレベルを調整すること、そして e)再生水性吸収媒質を接触段階に再循環させること、 を含んでなる、吸収性媒質を使用する二酸化硫黄含有ガス流からの二酸化硫黄の除去及び吸収性媒質の再生のための循環工程。

IPC (1件)：

B01D 53/14

FI (1件)：

B01D53/14 103

Fターム (13件)：

4D020AA06 ,  4D020BA16 ,  4D020BB03 ,  4D020BC01 ,  4D020CC09 ,  4D020DA01 ,  4D020DA02 ,  4D020DA03 ,  4D020DB02 ,  4D020DB03 ,  4D020DB07 ,  4D020DB08 ,  4D020DB20

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 米国特許第5,019,361号明細書
  
• 米国特許第5,292,407号明細書
  
• 米国特許第5,993,608号明細書
  
• 米国特許第5,393,505号明細書
  

審査官引用 (3件)

• 特開平2-258012
  
• 特表平6-502349
  
• 特開平4-250818