真空処理装置

発明者： , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：井上俊夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-392175
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270670
出願日： 1993年10月22日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
要約：

【要約】【目的】真空処理室やカセット室の配置のレイアウトの自由度が大きく、スペース効率の高い真空処理装置を提供すること。また搬送手段の駆動時のパーティクルの飛散を抑えること。【構成】減圧雰囲気とされる搬送室2内に、各々独立して水平方向に回動される例えば3本の搬送アーム51〜53を備えた多関節アームよりなる搬送手段5を設けることにより、搬送室2を直方体形状とし、その周囲に真空処理室4A〜4Cやカセット室3A、3Bを配置することができる。この場合、搬送室2の一辺に例えば2個の真空処理室4A、4Bを気密に接続し、また前記一辺に対向する他辺に真空処理室4C、4Dを気密に接続する構成とすることが好ましい。

請求項（抜粋）：

減圧雰囲気とされる気密構造の搬送室と、この搬送室に搬出入口を介して気密に接続された予備真空室と、前記搬送室に搬出入口を介して気密に接続された複数の真空処理室と、前記搬送室内に設けられると共に各々独立して水平方向に回動される少なくとも3本の搬送アームを備え、前記予備真空室及び真空処理室間で被処理体を搬送するための搬送手段と、を有してなることを特徴とする真空処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B65G 49/00 , B65G 49/07

FI (3件)：

H01L 21/68 A , B65G 49/00 A , B65G 49/07 C

Fターム (32件)：

5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031DA01 , 5F031DA17 , 5F031EA14 , 5F031EA19 , 5F031FA01 , 5F031FA02 , 5F031FA07 , 5F031FA11 , 5F031FA12 , 5F031GA10 , 5F031GA13 , 5F031GA43 , 5F031GA45 , 5F031GA47 , 5F031JA02 , 5F031JA28 , 5F031JA34 , 5F031KA11 , 5F031KA13 , 5F031LA01 , 5F031MA03 , 5F031MA07 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA32 , 5F031NA04 , 5F031NA05 , 5F031NA09 , 5F031NA14 , 5F031NA20

引用特許：

審査官引用 (7件)

特開平4-210223
特開平4-210223
特開平4-154118

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