特許

J-GLOBAL ID：200903081425557004

超親水性を有する意匠材による水膜形成方法

発明者： 下吹越 光秀 ,  磯 誠二 ,  渡部 俊也 ,  早川 信 ,  北村 厚 ,  千國 真
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
代理人 (1件)： 開口 宗昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-136994
公開番号（公開出願番号）：特開平9-075841
出願日： 1996年05月30日
公開日（公表日）： 1997年03月25日
要約：

【要約】【課題】 少量の水でも薄い均一な水膜を形成することが可能な超親水性を有する意匠材による水膜形成方法を提供する。【解決手段】 光触媒性半導体材料を含む層で被覆した意匠材、例えばタイル2に、光励起による親水性を発現させて、均一な水膜を表面に形成することにより解決する。

請求項（抜粋）：

光触媒性半導体材料を含む層で被覆した意匠材に、光励起による親水性を発現させて、均一な水膜を表面に形成することを特徴とする超親水性を有する意匠材による水膜形成方法。

IPC (3件)：

B05D 5/00 ,  B05D 7/24 302 ,  E04F 13/08

FI (3件)：

B05D 5/00 Z ,  B05D 7/24 302 Y ,  E04F 13/08 A